برخی از شما احتمالا با قانون مور آشنایی دارید. پس از گوردن مور؛ موسس شرکت اینتل این نام برای قانون مذکور در نظر گرفته شد. براساس قانون مور، هر ساله تعداد ترانزیستورهای موجود بر روی یک تراشه 2 برابر می‌شود. تراشه‌های تولید شده توسط شرکت‌های TSMC و سامسونگ به ترتیب از لیتوگرافی 7 و 8 نانومتری استفاده می‌کنند. این موضوع امکان استقرار ترانزیستورهای بیش‌تر در فضایی کوچک‌تر را فراهم می‌کند. بعلاوه به کمپانی‌های طراح تراشه نظیر کوالکام، هواوی، سامسونگ و اپل امکان می‌دهد تا تراشه‌هایی با مصرف انرژی پایین‌تر و قدرت پردازشی بالاتر را نسبت به نسل گذشته تولید نمایند. همچنین فناوری مذکور به تولیدکنندگان اجازه خواهد داد تا هندست‌های باریک‌تری را تولید کنند.
گزارشات امروز نشریه بلومبرگ به یک شرکت ژاپنی شناخته شده کوچک اشاره دارند. این شرکت در زمینه فراهم نمودن امکان افزایش تعداد ترانزیستورها در هر نسل جدید از تراشه‌ها توسط کمپانی‌های تولیدکننده نقش بزرگی ایفا می‌کند. Lasertec Corp تنها کمپانی در جهان است که تجهیزات تست موردنیاز برای فرآیند تولید موسوم به لیتوگرافی ماورابنفش بی‌نهایت (EUV) را تولید می‌کند. در اواخر سال جاری تنها TSMC و سامسونگ از لیتوگرافی EUV استفاده خواهند کرد. فناوری EUV با به‌کارگیری تکنیک‌های نه‌چندان فراوان جهت اتصال مدار کوچک به ویفرهای سیلیکونی و به منظور ایجاد اتصالات کوچک‌تر از 7 نانومتر بر روی ویفرهای سیلیکونی از پرتوهای پلاسما بهره می‌گیرد. شرکت Lasertec Corp صاحب دستگاهی است که ماسک‌های شیشه‌ای عبوردهنده پرتوهای پلاسما جهت پیاده‌سازی الگوی مداری را مورد تست و ارزیابی قرار می‌دهد.
دستگاه Lasertec به جستجوی نواقص احتمالی می‌پردازد. در این مرحله از فرآیند تولید تراشه، هرگونه مشخصه‌ای با سطح کیفی پایین‌تر از حد ایده‌آل احتمالا به تولید نامناسب مجموعه‌ای از تراشه‌ها و رها شدن تمامی آن‌ها منجر خواهد شد. تا این لحظه کمپانی اعلام کرده که سفارشاتی را برای خریداری این دستگاه 36 میلیون دلاری دریافت نموده است. کمپانی پیش‌بینی می‌کند که با آغاز تولید انبوه تراشه‌های 7 نانومتری EUV توسط TSMC و سامسونگ، سفارشات بیش‌تری را دریافت کند. هزینه بالای به‌کارگیری فناوری EUV تعداد شرکت‌های استفاده کننده از این فرآیند را محدود نموده است. اینتل می‌گوید که به‌کارگیری تکنولوژی EUV هنوز از نظر اقتصادی امکان‌پذیر نیست و شرکت Globalfoundries نیز از به‌کارگیری این فرآیند امتناع ورزیده است.
به گفته سامسونگ، لیتوگرافی 7 نانومتری EUV به کمپانی اجازه خواهد داد تا تراشه‌هایی با 40 درصد بهره‌وری بیش‌تر را تولید نماید. این موضوع افزایش 20 درصدی کارآیی و در عین‌حال کاهش 50 درصدی مصرف انرژی را در پی خواهد داشت. این خبر از آن‌دست اطلاعاتی است که کاربران اسمارت‌فون‌های قدرتمند مایل به شنیدن آن هستند.
