هواوی سرگرم توسعه خط تولید تراشه‌های 5 نانومتری بدون نیاز به دستگاه‌های لیتوگرافی EUV است. بعلاوه گزارش‌های منتشر شده نشان می‌دهند که تراشه‌های 3 نانومتری نیز هم‌اکنون مراحل تحقیق و توسعه را پشت سر گذاشته و قرار است تولید آنها تا سال 2026 آغاز شود.
برند چینی مجاز به استفاده از فناوری استاندارد EUV نیست؛ چرا که پتنت آن توسط کمپانی آلمانی ASML به ثبت رسیده و این شرکت از همکاری با هواوی منع شده است. در عوض هواوی از دستگاه‌های لیتوگرافی SSA800 با الگوی چندگانه که توسط شرکت Shanghai Micro Electronics (SMEE) تولید شده‌اند؛ استفاده می‌کند.
فرآیند تحقیق و توسعه برای تراشه‌های 3 نانومتری از دو رویه پیروی می‌کند: نخست معماری GAA که ساختار استاندارد مورد استفاده توسط شرکت‌های سامسونگ و TSMC محسوب می‌شود. مورد دوم، یک تراشه مبتنی بر نانولوله کربنی است که مراحل اعتبارسنجی آزمایشگاهی را پشت سر گذاشته و اکنون با خطوط تولید کمپانی SMIC تطبیق داده شده است.
دستگاه هواوی میت‌بوک فولد با تراشه کایرین X90 در اوایل ماه جاری میلادی عرضه شد. اگرچه کمپانی از این نیمه‌هادی به‌عنوان یک تراشه 5 نانومتری یاد کرده است؛ اما در واقع کایرین X90 یک تراشه 7 نانومتری با فناوری پکیجینگ پیشرفته محسوب می‌شود. این تراشه عملکردی در حد سایر نمونه‌های 5 نانومتری موجود در بازار را ارائه می‌دهد؛ اما بازدهی تولید بسیار پایین 50 درصدی موجب می‌شود تا هزینه تولید تراشه گران‌تر تمام شود. .
